Abstract

BORGES, Boniek C.D et al. Impact of extended radiant exposure time on polymerization depth of fluoride-containing fissure sealer materials. Acta odontol. latinoam. [online]. 2011, vol.24, n.1, pp.47-51. ISSN 1852-4834.

Propriedades fisicas de materiais utilizados como selantes de fossulas e fissuras estao diretamente ligadas ao seu nivel de retencao in vivo. Este trabalho objetivou avaliar a dureza Knoop (KHN) de topo e de base de, alem da razao entre a KHN de topo/base de materiais utilizados como selantes de fossulas e fissuras, como influenciadas pelo tipo de material (selante de fossulas e fissuras e resina de baixa viscosidade) e pelo tempo de fotoativacao (20 e 60 segundos). Vinte corpos-deprova foram confeccionados para os quatro grupos em analise (n=5), utilizando-se o LED Bluephase 16i. A KHN nas faces de topo e base foi obtida apos 24 h de polimerizacao e a razao entre a KHN de base/topo foi calculada. Os valores de KHN foram comparados pelos testes ANOVA/Tukey (p < 0.05). A resina de baixa viscosidade obteve maior KHN do que o selante em todas as condicoes experimentais. O selante apresentou valores de base menores que os de topo em todas as condicoes experimentais. O tempo de 60 s aumentou os valores de KHN de base das amostras da resina, bem como na razao entre a KHN de base/topo deste material. A resina de baixa viscosidade apresentou maior dureza e maior razao dureza base/topo do que o selante testado, as quais foram aumentadas com o prolongamento do tempo de exposicao radiante.

Keywords : Dureza; Fotopolimerizacao; Selante de fossulas e fissurs.

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