Resumen

BARBERIS, Carla L et al. Desarrollo y capacidad de remoción de los pesticidas atrazina, clorpirifós y endosulfán por parte de cepas de Aspergillus sección Flavi no toxigénicas. Rev. argent. microbiol. [online]. 2019, vol.51, n.1, pp.3-11. ISSN 0325-7541.  http://dx.doi.org/10.1016/j.ram.2018.03.002.

En este estudio se evaluó los efectos in vitro de 3 concentraciones de atrazina, clorpirifós y endosulfán sobre los parámetros de crecimiento de 4 cepas no toxigénicas de Aspergillus sección Flavi. También se evaluó la capacidad de las cepas de remover los pesticidas. Los parámetros de crecimiento se ensayaron en medio agar extracto de suelo suplementado con 5, 10 y 20mg/l de cada pesticida y acondicionado a -0.70, -2.78, -7.06 y -10.0 de potencial de agua (MPa). Los ensayos de remoción se realizaron en medio Czapek Dox con 20mg/l de cada pesticida bajo condiciones óptimas de crecimiento (-2.78 de MPa y 25 °C). Los niveles residuales de atrazina, clorpirifós y endosulfán se detectaron en un sistema HPLC con detección por fluorescencia. La fase de latencia de las cepas disminuyó significantemente en presencia de los pesticidas, indicando una rápida adaptación a dichas condiciones. La velocidad de crecimiento se incrementó considerablemente dependiendo de la concentración de pesticida. Las cepas Aspergillus oryzae AM1 y AM2 mostraron porcentajes elevados de degradación de atrazina (aproximadamente el 90%), seguidos por endosulfán (56 y 76%) y clorpirifós (50 y 73%). Se observó una correlación (r = 0.974) significante (p <0.001) entre el porcentaje de pesticida removido y la velocidad de crecimiento. Este estudio muestra que cepas no-toxigénicas de Aspergillus sección Flavi aisladas de suelos agrícolas desarrollan eficientemente en presencia de altas concentraciones de atrazina, clorpirifós y endosulfán en un amplio rango de MPa. Además, presentan capacidad de remover in vitro altos niveles de pesticidas en corto tiempo.

Palabras clave : Aspergillus oryzae; Aspergillus flavus; Atrazina; Clorpirifós; Endosulfán; Parámetros de crecimiento; Remoción.

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